Obducat ingår samarbetsavtal med Kimberley-Clark
OBDUCAT, ledande tillverkare av litografilösningar baserade på nanoimprintlitografi och elektronstrålelitografi, har ingått samarbetsavtal avseende gemensamma utvecklingsaktiviteter med Kimberley-Clark Corporation.Målet med samarbetet är att skapa en pilotlinje baserad på NIL (Nanoimprint Litografi) för produktion av Kimberley-Clark unika produkter. Applikationen kommer inte att tillkännages förnärvarande. Målsättningen är en upprampning till volymproduktion förutsatt att utvecklingsaktiviteterna når uppställda mål. [...]